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单片湿法制程设备

单片兆声清洗机

半自动单片兆声清洗机主要用于6、8英寸晶圆或掩模版的清洗,用于去除晶圆或掩模版上的油脂、光刻胶、抛光液等物理残留

设备主要由刷洗工艺腔体、升降扫描摆臂模块刷洗摆臂模块、供排液系统、排风系统、中央控制系统等组成。刷洗工艺腔体具备Brush刷洗、高压二流体清洗、兆声清洗、药液清洗、氮气吹干、离心甩干等功能

产品优势:

1. 兼容多种规格尺寸

2. 配置可根据客户需求定制 

3. 低药液消耗

4. 支持多种药液分层排放

5. 高效的颗粒去除率,particle≤30ea @0.2μm


产品详情

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